各种类型的电子电路或LSI（大规模集成电路），LCD（液晶显示器），诸如亚微米口那些金属杂质，在抗蚀剂上添加的制造过程中的残基或有机残基乙烷分子的介绍一个最近电子工业的快速发展它不仅是产品性能恶化的主要原因，而且正在成为微电子制造中的主要表面污染源。产品产量损失归因于表面污染。有许多在工业中使用的表面清洗方法，主要是作为使用溶剂的化学清洁方法用于除去表面的污染和化学溶剂是与关联或提高清洗效率，但是兆声超声波清洗。化学清洗是使最终污染的化学溶剂是环境问题以及药物eojineun在本文中使用可以通过使用溶剂的具有高纯度也各种环境法规协议药物常量使用开销逐渐污染助教。使用其他氟基氯和有毒物质的规定正变得越来越严格。低温CO2清洗技术是颗粒固化由CO2表面上的高速碰撞后去除污染物的相变，并且它被升华所述干净的清洗过程中不留下残余物的方法的各种半导体器件的精密产品的印刷电路板它可广泛用于各种表面污染，膜去除，并已得到验证。有没有必要组装拆卸，清洁和有效的设备在三个形状比更重要的是什么并不在三个后处理过程中会出现肺部清洁剂的点不是必需的，收集相对容易的环保清洗工艺的来源之一后，还有三个。它的特点是清洁过程具有很高的清洁效率，因为它具有快速的夹紧速度。

     因此，在该发展中，目的是制造干冰的目的和使用该干冰的清洁方法的开发。干冰清洁分为和。雪粒适用于粗糙清洁或精密清洁，而后者适合强力清洁。干冰干燥是干冰物理去除污染物的方法。由于污泥升华并变成气体，清洁过程产生的废物只去除了污染物，很容易与气体和二氧化碳分离，而且清洗时间相对较快，该清洁方法将从半导体光学元件等开始，并可用于化学，化学和船舶应用。 ，,,,,去除污染物，如建筑和城墙内和隧道壁的室内和室外雕塑核电站，已经广泛的应用和技术环境，以去除油漆表面，包括飞机外，喇叭证明酒吧经济优势在这项研究中，通过建立和开发通过CO2过程制造干冰颗粒的技术，建立控制它的技术，并解决所附的所有问题，最大化爆炸（喷射）的冲击力。这将是一项重大挑战。韩国1个国外研究趋势仍然明显动作看起来没有那么冲理论（），研究了预电子元器件将是清洁和清理的主题以下实验室清洗，雪的制造，使用配置各种喷嘴系统并根据工艺参数以及清洁效果测试和雪污染目标的影响量化清洁能力。

      另一方面，在第二年，基于下一年的开发内容，构建了用于提高纯度和提高纯度的计划装置，并且检查了对该方法的适用性。 基于这个理论。 3 CO在第二年，我们开发了一种可以使用气体2形成干冰颗粒的冷雪装置，开发了大面积喷嘴，并开发了FPD有机洗涤器，这是实用工艺之一，并将其应用于商业化和批量生产过程 ，这导致了国家政策的实现和EL细胞系统的目标。 此外，通过申请CO2清洗技术专利，我们为提高技术价值奠定了基础。

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